簡要描述:*CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機(jī) 高純氧化鋁粉研磨分散機(jī),氧化鋁粉高速分散機(jī),,高純氧化鋁漿料分散機(jī),金屬氧化物研磨分散機(jī),化工研磨分散機(jī)
產(chǎn)品型號:
所屬分類:高速剪切分散機(jī)
更新時(shí)間:2024-08-26
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【產(chǎn)品介紹】
一、產(chǎn)品名稱:高純氧化鋁粉研磨分散機(jī),氧化鋁粉高速分散機(jī),高純氧化鋁漿料分散機(jī),金屬氧化物研磨分散機(jī),化工研磨分散機(jī)
二、高純氧化鋁粉的性質(zhì)及應(yīng)用
氧化鋁是白色晶狀粉末、具有多孔性、高分散性和絕緣性等特點(diǎn)。高純氧化鋁氧粉,又稱三氧化二鋁,分子量102,是一種白色無定形粉狀物,俗稱礬土。
高純氧化鋁的應(yīng)用:
一般3N高純氧化鋁主要應(yīng)用于先進(jìn)陶瓷,4N主要應(yīng)用于熒光粉,5N應(yīng)用于藍(lán)寶石晶體、鋰電池隔膜、高級陶瓷等。
:應(yīng)用于鋰電池隔膜及陶瓷涂層、對純度、粒徑、形貌等有嚴(yán)格要求,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
中端:應(yīng)用于LED上游產(chǎn)業(yè)鏈,藍(lán)寶石襯底,對純度、雜質(zhì)、產(chǎn)品穩(wěn)定性的要求較為嚴(yán)格,需要使用4N5N以上及納米尺度的超細(xì)高純氧化鋁。
低端:集成電路基板、消費(fèi)電子,紫外固化涂料等方面的應(yīng)用,需要使用4N級別左右的高純超細(xì)氧化鋁,整體要求相對較低。
三、高純氧化鋁粉的應(yīng)用工藝
主要是將高純氧化鋁粉均勻的分散到須改性的基質(zhì)當(dāng)中,然而傳統(tǒng)的分散設(shè)備無法滿足分散效果的要求,傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速較低,一般為3000rpm。而采用CIK管線式研磨分散機(jī),轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,另外*的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),將膠體磨和分散機(jī)一體化,先研磨后分散,分散粒徑更小,粒徑分布更均勻。
四、CIK化工研磨分散機(jī)的優(yōu)勢
1、上海CIK研磨式分散機(jī)可以很好的解決這一問題,“膠體磨+分散機(jī)”的*結(jié)構(gòu),一級研磨模塊可以將團(tuán)聚體研磨打開,第二級分散模塊再瞬間對物料進(jìn)行充分的分散,一步到位,效果好,效率高。
2、傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速一般不足3000rpm,難以分散。而CIK研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,剪切速率高,可以充分的將石墨烯分散到涂料當(dāng)中。
3、CIK研磨分散機(jī)采用管線式分體式結(jié)構(gòu),物料從進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備工作腔中,進(jìn)行處理,然后再從出口打出,物料順利得的剪切細(xì)化分散,產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定。另外可以實(shí)現(xiàn)在線式生產(chǎn),滿足大工業(yè)化生要求。
五、NKD2000系列高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)選型表
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
NKD2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
NKD2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
NKD2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
NKD2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
NKD2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
NKD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 |
*CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機(jī) *CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機(jī) *CIK/新浪輕工 NKD2000高純氧化鋁粉研磨分散機(jī)